侵犯商业秘密罪专题 / 集成电路布图设计 / 集成电路保护
集成电路保护
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2015-12-28 11:35:50 集成电路布图设计保护条件
根据版权法的理念,作品受保护的实质条件是具备独创性,此外并无形式上的要求。因此,大多数国家实行的都是自动保护的原则,作品自创作完成之日起自动享有版权。而根据专利法的一般规则,技术方案受专利保护的实质条件是具备三性:新颖性、创造性和实用性;形
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2015-12-28 11:18:29 集成电路布图设计独创性的法律规定
《条例》第4条规定,“受保护的布图设计应当具有独创性,即该布图设计是创作者自己的智力劳动成果,并且在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计。受保护的由常规设计组成的布图设计,其组合作为整体应当符合前款规定的条