集成电路布图设计

• 集成电路布图设计的保护要件

  　　所谓的保护要件是指为获得法律保护所必须满足的实质性条件，例如，专利的保护要件是新颖性、创造性(或非显而易见性)和实用性，著作权的保护要件是原创性。虽然集成电路布图设计的保护要件也引用原创性原则，但其内容与著作权的原创性却有所不同。...

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• 集成电路布图设计权的保护期限

  　　关于布图设计权的保护期，各国法律一般都规定为10年。根据《关于集成电路的知识产权条约》的要求，布图设计权的保护期至少为8年。《知识产权协议》所规定的保护期则为10年。...

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