所谓的保护要件是指为获得法律保护所必须满足的实质性条件，例如，专利的保护要件是新颖性、创造性(或非显而易见性)和实用性，著作权的保护要件是原创性。虽然集成电路布图设计的保护要件也引用原创性原则，但其内容与著作权的原创性却有所不同。对著作权而言，作品只要能确定系作者自己的创作而非抄袭、复制，则该作品就具备原创性的条件。但对于集成电路布图设计而言，由于它必须遵守工程设计原理、方法、规范，甚至采用设计常规。
 

　　上述这些知识已进入公有领域，属人类共有，不得为“私权”，这是知识产权有别于其他财产权一大特征。对于智力成果，只能对自己创造、创作或其他智力活动而产生的信息主张有限度的权利。“贪天之功，据为已有”违反了人类的理性。所以在布图设计法律保护制度中，原创性是指该布图设计系创作者自己的智力劳动成果，并且在布图设计创作者和集成电路制造者中，该布图设计不是常规的设计。上述这句话概括起来就是，布图设计的原创性等于“自己创作”加“非常规设计”。