《条例》第4条规定，“受保护的布图设计应当具有独创性，即该布图设计是创作者自己的智力劳动成果，并且在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计。受保护的由常规设计组成的布图设计，其组合作为整体应当符合前款规定的条件。”该条即是对集成电路布图设计保护要件的规定，布图设计应当具有独创性或者由常规设计组成的布图设计，其组合作为整体应当具有独创性。布图设计的保护条件使用了与著作权法中的作品受保护条件相同的术语——“独创性”。

　　但是，布图设计的独创性与作品的独创新相比，其内容与涵义有所不同。对著作权而言，独创性应该是指作者独立构思，不抄袭、剽窃他人作品。 因此，作品只要能确定系作者自己的创作成果而非抄袭、复制，则该作品就具备独创性的条件。但对于集成电路布图设计而言，其毕竟带有技术性,必须遵守工程设计原理、方法、规范，甚至采用设计常规。 根据《条例》第4条的规定，布图设计除了为“创作者自己的成果”外，还需“不是公认的常规设计”。这实际上是对创造高度的要求，但这里的创造高度比起专利法中的创造性所要求的高度要低得多。因此对于布图设计独创性的要求可以概括为：布图设计的独创性等于“自己创作”加“非常规设计”。