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集成电路保护与商业秘密保护的区别

时间:2015-12-30 11:34来源:未知

  集成电路布图设计是一种高科技的结晶,其中凝结了开发者大量创造性的脑力劳动,是智力成果的一种重要形式。最初人们很自然地试图在各种已有的知识产权法律当中寻找合适的一种为集成电路布图设计提供保护。
 

  商业秘密法保护:含有布图设计的集成电路虽然是一种科技产品,有一定的布图设计技术,但在通常情况下,该产品一旦出售,其布图设计就可能会公开了,从而丧失了商业秘密保护的前提之一:秘密性,因而无法再作为技术秘密予以保护。即使存在为集成电路布图设计提供商业秘密保护的可能性,同时也必须看到其困难:
 

  (1)商业秘密保护模式需要集成电路制作者在保密方面投入大量的精力和金钱,势必提高集成电路的成本,妨碍公众获得相对的廉价商品。

  (2)商业秘密保护模式势必引导集成电路制作者将其制作的集成电路留做自用,而不是作为商品供公众使用,阻碍了整个社会的技术提升水平。

  (3)即使集成电路制作者将其制作的集成电路投入市场,也很可能被竞争对手在短时间内将其布图设计反求出来。
 

  因此,集成电路布图设计是兼备作品与技术成果特性的独立的知识产权客体,有着自己的特点。根据TRIPS协议第35条的规定,对布图设计的保护适用《集成电路知识产权条约》第2至7条、第12条和第16条。根据这些条款的规定,对布图设计的保护可以根据情况适用特别法、版权法、专利法、实用新型法、工业品外观设计法、不正当竞争法或其他法,或任何这类法的结合。

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